なぜ半導体の硬化処理に赤外線を使用するのか
半導体洗浄室で従来行われてきた乾燥や硬化処理は、対流や溶剤を利用する方法ですが、もはや十分ではありません。今は「グリーン」で鉛フリーの基準へと移行していく中で、赤外線ヒーターが役立つのです。
考えてみてください。従来のオーブンでは、空気を加熱するために大量のエネルギーが消費されます。それは無駄なことです。一方、赤外線ランプはその手間を省きます。エネルギーを直接基板に送り込むのです。
直接的で、速く、理にかなっています。
中間業者を排除する
赤外線技術を使えば、巨大な洗浄室全体にエネルギーを供給する必要がなくなります。部品周辺の空気を加熱するためのコストもかかりません。部品自体を直接加熱するのです。
私たちは、コーティングや接着剤の吸収帯に合わせて、短波および中波のエミッターを使用します。オーブンで数分待つ代わりに、数秒で所定の温度に到達します。その結果、エネルギーコストが削減され、ウェーハの処理速度も向上します。
洗浄室を本当に清潔に保つ
鉛フリーのはんだや環境に優しい樹脂は、非常に繊細な扱いが必要です。適切な温度管理が不可欠です。
温度が高すぎると基板が損傷します。逆に低すぎると硬化処理が完了しません。正確な温度管理が求められます。
赤外線の利点は、熱を局所的に加えられることです。理想的な温度範囲を実現でき、揮発性有機化合物が洗浄室内に拡散する心配もありません。これはずっとクリーンな作業方法です。
正直なデメリット
もちろん、すべてが完璧というわけではありません。直接放射による加熱は速いですが、部品全体に均等に熱を分布させるのは難しいです。
部品に厚い部分と薄い部分がある場合、薄い部分が先に加熱されます。単純に「設定して放置」というわけにはいきません。ランプの配置や反射板を使って、過熱部位を防ぐ必要があります。
良い点は、これらのヒーターは従来の対流式ヒーターの代替品として設計されていることです。サイズも小さく、電力コストも削減できます。
ただし、制御システムがその速さに対応できるか確認してください。赤外線ランプは即座に反応します。従来の抵抗線式ヒーターのように、ゆっくりと温度が上がることはありません。