なぜウェーハの硬化処理にIR硬化法を採用するのか？ 最近、赤外線による硬化処理が積極的に推進されています。それには理由があります。私たちは、溶剤を使った加熱や、古い工場で見られる大きな炭素排出量を避けたいのです。クリーンルームでは、「環境に優しい」や「鉛フリー」といった言葉は単なるマーケティング用...

ウェーハの表面で熱が無駄に散逸するのを防ぎましょう。 製造プロセスにおいて、エネルギーの無駄遣いは単なるコストの問題ではありません。それは大きな悩みの種です。ウェーハを加熱する際には、単に「熱くする」だけでは不十分です。熱が正確に必要な場所に届くことが重要です。 そのため、私たちは金でコーティング...

ガラスの破片を防ぎ、ウェーハヒーターの故障を防ぐ 高負荷の半導体製造環境において、赤外線ランプが壊れるというのは単なる「停止事象」ではありません。それはまさに悪夢です。 石英管が壊れると、単に動かなくなるだけでなく、ウェーハにガラスの破片や微粒子が飛び散ります。わずかな破損でも、全体のウェーハが不...

ウェーハ処理に不要なエネルギーを浪費するのはやめましょう。 シリコンウェーハを加熱する際、無駄に消費される1ワットたりとも、単なる無駄な出費に過ぎません。 問題は、通常の赤外線ランプではエネルギーがあちこちに散乱してしまうことです。しかし、ウェーハ処理装置では、基板に届く熱だけが重要です。それ以外...

ウェーハをきれいな状態で乾燥させるために MEMSセンサー用のウェーハを乾燥させる際、熱だけでは不十分です。実際の問題は、微粒子が発生することです。クラス100の清浄室では、古い断熱材の破片や金属酸化物の微粒さえも、全体の製品を台無しにしてしまいます。これは非常に厄介で、コストもかかります。 だか...

高純度クォーツ式赤外線ランプ：クラス100の清浄環境に必要なクリーンな熱源 もし、クラス100の清浄室でウェハーの硬化処理を行っているのであれば、汚染制御がいかに重要かご存知でしょう。妥協の余地はまったくありません。 当社の高純度クォーツ式赤外線ランプは、そうした厳しい要求に応えるために開発されま...

リソグラフィー工程において、ウェーハ全体で0.5℃もの温度差が生じると、オーバーレイマージンやCDコントロールに悪影響を与えます。ソフトベイクやハードベイクでは、不均一な温度分布は許されません。私たちは、このような問題を解決するために、ウェーハ表面の張力を測定するヒーターを開発しました。これにより...

300mmファブラインでは、フォトレジストのソフトベイク時の温度変動やウェーハ乾燥時の粒子の発生を許容することはできません。熱制御が厳しい状況下では、加熱要素は単なるハードウェアではなく、プロセスそのものです。当社のオンライン赤外線加熱モジュールは、まさにそうした状況に対応するために設計されており...

300 mmラインでは、ウェハがベイクトラックに到達した時点で、表面に薄い水分の皮膜が残っています。もしランプがその水分を迅速かつ均一に除去できなければ、次のリソグラフィ工程で問題が顕在化します。エッジビード、レジスト欠陥、CDドリフトが発生し、調整報告書に歩留まり低下として現れます。ヒータランプ...