Di bahagian proses pembakaran tersebut, perubahan suhu sebanyak 0.1°C sahaja sudah cukup untuk mengubah profil bahan fotoresist tersebut sebanyak beberapa nanometer. Perubahan ini akan terpapar pada laporan hasil pengeluaran. Dalam proses litografi, penggunaan haba merupakan faktor penting; ia merupakan syarat yang perlu dipatuhi. Kami telah merancang lampu berfilamen tungsten yang diletakkan di dalam kaca kuarsa berkualiti tinggi, agar haba yang dihasilkan dapat dikawal dengan tepat. Di zon panas tersebut, ketekalan suhu pada tahap wafer adalah pada tahap ±0.1°C, dan suhu dapat dikawal dengan cepat, dalam masa beberapa saat sahaja. Lampu-lampu ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang digunakan bertujuan untuk mengelakkan penghasilan zarah-zarah kontaminan. Lampu-lampu ini beroperasi 24/7; kami telah melihatnya beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%.
Yang paling penting ialah di stesen pembakaran. Proses pembakaran yang betul akan menentukan profil pelarut bahan fotoresist serta daya pegangan bahan tersebut pada permukaan wafer. Jika suhu terlalu rendah, pelarut akan terperangkap dalam lapisan fotoresist. Jika suhu terlalu tinggi, profil lapisan fotoresist akan berubah. Lampu-lampu kami memastikan suhu tetap stabil, sehingga dimensi penting dan sudut sisi lapisan fotoresist kekal dalam spesifikasi yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.
Hasilnya ialah lapisan yang berkualiti tinggi, kurangnya bahan buangan, dan pengurangan kerja-kerja pembaikan. Anda juga dapat menjimatkan tenaga kerana proses pemindahan haba dilakukan secara efisien. Selain itu, jangka hayat lampu yang panjang membolehkan masa penggantian lampu dipanjangkan, sekaligus mengurangkan masa henti operasi.
Pemasangan lampu ini mudah, tetapi anda masih perlu berhati-hati. Pastikan lampu tersebut sesuai dengan geometri reflektor dan tetapan PID pengawal suhu, agar tidak timbul kawasan panas yang berlebihan. Semak juga voltan dan keserasian konektor dengan oven atau alat pelapisan yang digunakan, serta pastikan saluran pengudaraan bersih dan kering.
Anggaplah kaca kuarsa sebagai sebahagian daripada ruang proses. Gunakan sarung tangan semasa bekerja dengannya, pastikan permukaannya bebas daripada cap jari, dan periksa profil pembakaran menggunakan wafer yang telah dikalibrasi sebelum melepaskan batch produk tersebut.