Warum wir auf die IR-Härtung für Wafer umsteigen In letzter Zeit gibt es einen starken Trend hin zur Verwendung von Infrarotstrahlung zur Härtung....

Hören Sie auf, Energie an den Oberflächen der Wafer zu verschwenden In einer Fertigungsstätte ist es nicht nur ein Budgetproblem, wenn Energie...

Verhindern Sie Glasscherben: Schützen Sie Ihre Waferheizer vor Schäden In einer Hochleistungs-Semikondaktorenanlage ist das Platzen einer...

Hören Sie auf, Ihre Energie verschwenden zu müssen – für Überflüssigkeiten in den Werkzeugen zur Verarbeitung von Siliziumwafern. Wenn Sie...

Ihre MEMS-Sensorwafer wirklich sauber trocknen lassen Beim Trocknen von MEMS-Sensorwafern ist Wärme zwar wichtig – doch sie ist noch nicht alles. Das...

Hochreine Quarzkristall-IR-Lampen: Die saubere Wärme, die Sie in Reinräumen der Klasse 100 benötigen Wenn Sie Wafer in einem Reinraum der Klasse 100...

Auf der Lithografieebene kann ein Hotspot mit einer Temperaturdifferenz von 0,5 °C auf der Waferoberfläche dazu führen, dass die notwendigen...

In einer 300-mm-Fabriklinie darf es keine Abweichungen bei der Behandlung des Photosensors durch Wärmebehandlung geben – auch nicht während des...

Auf der 300-mm-Linie trifft das Wafer auf die Bake-Track-Anlage, während es noch eine dünne Schicht Oberflächenfeuchtigkeit trägt. Wenn die Lampe...