Hochreine Quarzkristall-IR-Lampen: Die saubere Wärme, die Sie in Reinräumen der Klasse 100 benötigen
Wenn Sie Wafer in einem Reinraum der Klasse 100 trocknen lassen, wissen Sie, wie wichtig eine strenge Kontrolle von Verunreinigungen ist. Es gibt keinen Spielraum für Kompromisse.
Unsere hochreinen Quarzkristall-IR-Lampen wurden genau für diese Anforderungen entwickelt. Sie liefern intensive, gezielte Wärme genau dort, wo sie benötigt wird – ohne dass Partikel freigesetzt werden oder Dämpfe entstehen.
Die eigentliche Herausforderung besteht darin, eine starke Wärmeabgabe zu erreichen, ohne die Sauberkeit des Prozesses zu gefährden. Genau das löst diese Lampe.
Leistung, Spannung und Wärme – sorgfältig abgestimmt
Die Lampe arbeitet mit 400 V und 2500 W. Dadurch wird eine große Menge an Wärme in einem kleinen Raum erzeugt. Wir haben uns für 400 V entschieden, weil dadurch der Stromfluss geringer bleibt – was wiederum eine einfachere Verkabelung sowie weniger Komplexität im System bedeutet.
Der Leuchtstoffrohr ist 300 mm lang – absichtlich. Dadurch passt er perfekt in die üblichen Verarbeitungsbereiche für Wafer. So erhalten Sie eine gleichmäßige Abstrahlung, ohne dass überdimensionierte Komponenten erforderlich sind.
Allerdings bringt 2500 W auch eine hohe Wärmebelastung mit sich. Die Lampe benötigt daher eine effektive Kühlung. Stellen Sie sicher, dass Ihr Kühlsystem für den Temperaturanstieg gewappnet ist.
Warum Quarz – und warum der R7s-Anschluss?
Wir verwenden hochreines Quarzglas, weil dieses Hitzebelastungen problemlos bewältigt und chemisch inert bleibt. Mit anderen Worten: Es gibt keine Stoffe frei, die die Sauberkeit des Reinraums beeinträchtigen könnten.
Im Inneren heizt der Kurzwellen-Infrarotstrahler schnell auf und reagiert sofort – genau das, was man bei intensiver Nutzung braucht.
Der R7s-Anschluss ist eine einfache Zwei-Pin-Ceramic-Schnittstelle. Er ist einfach zu verbinden, kann hohe Temperaturen verkraften und bietet eine stabile Befestigung. Keine Kunststoffgehäuse – keine komplizierten Dichtungen, die versagen könnten und Partikel freisetzen würden.
Wafer-Trocknung – ohne Stress
Beim Trocknen von Wafer benötigen Sie Wärme, die schnell einwirkt, genau ins Ziel trifft und dabei sauber bleibt. Diese Lampe heizt sich schnell auf, sodass Sie die erforderlichen Zeiten einhalten und eine konstante Vernetzung der Wafer erreichen können.
Da die Lampe aus hochreinen Materialien hergestellt wird, wird der Heizelement selbst niemals zu einer Quelle von Verunreinigungen – somit bleibt die Qualitätskontrolle gewährleistet.
Der R7s-Anschluss erleichtert außerdem die Wartung. Er kann einfach als Ersatz für viele bestehende Anlagen verwendet werden – dadurch entsteht weniger Stillstand, wenn etwas ausgetauscht werden muss.
Es geht hier nicht darum, nur Zahlen zu optimieren. Es geht vielmehr um ein Heizsystem, das rund um die Uhr arbeiten kann und trotzdem allen Anforderungen eines Reinraums entspricht.
Genau dann, wenn es am wichtigsten ist – also direkt beim Trocknungsprozess – erhalten Sie Kontrolle, Stabilität und Zuverlässigkeit, auf die Sie sich verlassen können.