化学処理用の浴槽を高温に保つ方法（爆発を防ぎながら）
正直に言うと、半導体の洗浄用浴槽を加熱するのはかなり難しい作業です。まるで細い綱の上を歩くようなものです。一方で、温度を正確にコントロールする必要があります。また、周囲には化学物質の蒸気が存在しており、ちょっとした火花があれば実験室全体が火の海になってしまいます。 そのような環境で一般的な赤外線ランプを使用するのは危険すぎます。だからこそ、私たちは開放型の加熱方式をやめて、すべてをしっかりと密閉するようにしました。
秘訣は密封にある
私たちが採用している方法は、赤外線エミッターを高品質の石英製のケースに包み込み、さらにその上にもう一重の保護層を設けるというものです。これにより、発熱するフィラメントと有害な蒸気との間に物理的な壁ができ、接触や火花、爆発が起こりません。 また、使用する材料が化学物質によって侵食されないようにしています。すべての部品は不活性なものです。もし密封が破れてしまっても、ランプは単純に動かなくなるだけです。他の部品に影響を与えることはありません。
熱への対処法
これらのシステムは迅速に反応します。それが重要な点です。浴槽の温度を正確にコントロールする必要があり、しかもすぐに対処する必要があります。 しかし、一箇所にあんなに多くの熱が集中すると、別の問題が生じます。ランプを箱の中に入れるだけでは不十分です。金属は膨張し、密封部分もずれてしまいます。 加熱時に漏れやひび割れが起こらないように、柔軟で耐熱性の高いガスケットを使用しています。これにより、機械が冷たい状態でも、全速力で動作している状態でも、密封が保たれます。
使用開始までの手順
これらは簡単に取り付けられるように設計されています。既存の装置を分解してまで使う必要はありません。現在の制御装置に接続するだけで大丈夫です。 ただし、保護フィルターを追加したため、裸のランプに比べて赤外線の強度が少し低下します。これは大きな問題ではありませんが、望む温度を得るためには、電力設定を少し上げる必要があるかもしれません。