Op de productielijn is het gebruik van een specifieke temperatuur voor het verhitten van de fotoresist geen aanbeveling – het is een vereiste. Een verschil van 2°C in de temperatuur kan leiden tot afwijkingen in de dimensionen van de wafer, waardoor er defecten ontstaan en de wafer naar de prullenbak gaat. De ovenlamp moet dus een constante en voorspelbare warmte leveren, shift na shift.
Wat belangrijk is onder de motorkap
We hebben de SiC-ovenlamp ontworpen met behulp van kortegolf-infrarood licht, zodat er snel en effectief warmte wordt gegenereerd op het oppervlak van de wafer. De thermische uniformiteit blijft binnen ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. De lamp is geschikt voor gebruik in een schone omgeving, met een classificatie van ISO Class 1–100. We gebruiken materialen die weinig gassen afgeven en een ontwerp dat helpt om de vorming van deeltjes te voorkomen. Het doel is om geen deeltjes te genereren – dit wordt gecontroleerd met behulp van in-situ-metingen tijdens de kalibratieprocedures. Hierdoor blijven de verhittingspatronen stabiel, zijn de procesparameters nauwkeuriger en blijft het gedrag van de fotoresist consistent van lot tot lot.
Waarom dit geschikt is voor lithografie en het gebruik van fotoresist
Bij lithografie en het verwerken van fotoresist is het belangrijk om een constante temperatuur te behouden. De lamp moet snel de gewenste temperatuur bereiken, deze behouden en daarna weer op koeltemperatuur komen, zodat de volgende stap geen problemen oplevert. De SiC-lamp verkort de tijd die nodig is om de gewenste temperatuur te bereiken, vermindert de thermische vertraging en zorgt voor meer herhaalbaarheid tussen verschillende shifts. In praktijk betekent dit minder herwerkingswerk, een hogere rendement op de eerste poging en betrouwbare cyclustijden. Ook wordt er minder energie verbruikt, omdat de ingangsspanning wordt omgezet in gerichte warmte met minimale verspilling. Bovendien zorgt de lange levensduur van de lamp voor minder onderhoudsinterruptions.
De praktische details die belangrijk zijn
Voor de installatie is het belangrijk om de geometrie van de ovenport overeen te brengen met die van de lamp en om de elektrische interfaces goed te controleren – spanning, type连接器 en aarding. Op deze manier voorkom je ongewenste warmtepunten en problemen veroorzaakt door verschillen in spanning. De lamp presteert het beste wanneer de reflector van de oven perfect is afgesteld op het emissieprofiel van de lamp. Anders kan dit leiden tot ongelijke temperaturen over het oppervlak van de wafer. Plan een korte kalibratietijd in om het verhittingsprofiel vast te stellen. Eenmaal ingesteld, werkt de lamp 24/7 met minimale afwijkingen, maar het is toch belangrijk om regelmatig de lamp te kalibreren om de procesparameters op peil te houden.