Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah untuk wafer Kini, terdapat dorongan yang kuat untuk menggunakan kaedah...

Hentikan pembaziran tenaga pada permukaan wafer Dalam proses pengeluaran, pembaziran tenaga bukan sahaja merupakan masalah dari segi kos, tetapi juga...

Hentikan serpihan kaca: Lindungi pemanas wafer daripada rosak Dalam sistem semikonduktor yang beroperasi pada beban tinggi, kerosakan pada lampu...

Hentikan pembaziran tenaga pada alat pemprosesan wafer Ketika anda memanaskan wafer silikon, setiap watt tenaga yang terbuang merupakan pembaziran...

Mengekalkan Kebersihan Wafer Semasa Proses Pengeringan Ketika mengeringkan wafer sensor MEMS, haba hanyalah sebahagian daripada faktor yang perlu...

Lampu inframerah kuarsa berkualiti tinggi: Panas yang bersih yang diperlukan untuk bilik bersih kelas 100 Jika anda menggunakan lampu ini untuk...

Di bahagian litografi, kawasan yang mempunyai suhu 0.5°C boleh merosakkan kualiti permukaan wafer tersebut. Kaedah pemanasan jenis “soft bake” dan...

Pada lini pengeluaran berukuran 300mm, kita tidak boleh membiarkan berlakunya sebarang penyimpangan semasa proses pemanasan bahan fotorezist, atau...

Pada barisan 300 mm, wafer akan melalui trek pemanggangan dengan masih membawa lapisan nipis kelembapan permukaan. Jika lampu pemanas tidak dapat...