왜 금 코팅된 반사체가 IR 장비에 있어서 중요한지
반도체 웨이퍼를 처리할 때 가장 중요한 것은, 전력을 낭비하지 않으면서도 웨이퍼 표면에 가능한 한 많은 열을 전달하는 것입니다.
대부분의 사람들은 일반적인 알루미늄 반사체를 사용합니다. 이 방법도 괜찮지만, 알루미늄은 적외선 에너지를 과도하게 흡수하는 경향이 있습니다. 마치 스폰지에 공을 튕기려는 것과 같죠. 여기서 바로 금이 유용해집니다.
비결은 바로 반사 성능에 있습니다.
알루미늄은 가시광선에는 효과적이지만, 장파장의 적외선에는 그다지 효과적이지 않습니다. 하지만 금은 그런 에너지를 다시 밖으로 반사해냅니다. 그래서 열이 기계의 본체 안으로 새어 들어가는 것을 막고, 웨이퍼에 직접 열이 전달됩니다.
그 결과, 열 분포가 훨씬 더 균일해지고, 초점도 훨씬 더 정확해집니다.
적절한 형태를 만드는 것도 중요합니다.
우리는 그냥 금을 금속 위에 simple하게 도포하는 것이 아니라, 먼저 알루미늄 표면의 포물선 형태를 섬세하게 조각합니다. 형태가 완벽해지면 그 위에 정확한 두께의 금 층을 추가합니다. 이렇게 하면 열이 정확한 위치에 전달되어, 필요한 곳에만 열이 가해지고, 그로 인해 시스템의 부하가 줄어듭니다.
하지만 한 가지 주의해야 할 점이 있습니다.
열을 더 효율적으로 전달하려면, 램프 하우징에 더 많은 부담이 가해집니다. 만약 고출력 램프를 사용한다면, 냉각 시스템이 이를 감당할 수 있어야 합니다. 만약 반사된 에너지로 인해 하우징이 너무 뜨거워진다면, 램프는 예상보다 훨씬 빨리 손상될 것입니다.
이것이 당신에게 주는 의미는?
가장 좋은 점은, 이러한 반사체들은 기존 장비를 그대로 사용할 수 있다는 것입니다. 전체 장비를 다시 설치할 필요가 없습니다.
일단 교체를 하면 두 가지 선택지가 있습니다. 전력 비용을 줄이기 위해 출력을 줄이거나, 그 효율성을 활용하여 작업 속도를 높일 수 있습니다. 이렇게 하면 과정에서의 추측이 필요 없어집니다. 지불하는 모든 전력은 실제로 웨이퍼 처리에 사용됩니다.