Lâmpada de forno de carboneto de silício (SiC)

Tue, 23 Jun 2026 01:23:00 +0800

Na linha de produção, o processo de secagem do fotoreativo não é algo opcional – é uma exigência obrigatória. Uma variação de 2°C no processo de secagem pode causar alterações nas dimensões críticas dos waferes, levando à ocorrência de defeitos e fazendo com que eles sejam descartados. A lâmpada do forno precisa fornecer calor de forma previsível e consistente, de turno em turno.

O que é importante por trás disso tudo Desenvolvemos a lâmpada para fornos feitos de SiC, utilizando ondas infravermelhas de curta distância, visando um aquecimento rápido e uniforme da superfície dos waferes. A uniformidade térmica é mantida em torno de ±0,1°C em toda a área do wafer.

Elemento de aquecimento do forno LPCVD

Thu, 18 Jun 2026 04:58:11 +0800

Na fábrica, um forno de LPCVD não tem segunda chance em termos de desvios térmicos. Uma única variação térmica já é suficiente para causar problemas: filmes com espessura irregular, junções dopadas que não foram instaladas no lugar certo, e um monte de wafers inválidos. Construímos o elemento de aquecimento de modo a manter o controle térmico preciso, run após run.

O que é importante, tecnicamente
O elemento depende da estabilidade do quartzo e da resposta ao infravermelho de onda curta para gerar calor de maneira rápida e uniforme. A uniformidade ao nível dos wafer fica dentro de ±0,1°C. Os materiais utilizados são compatíveis com ambientes de sala limpa, o que reduz a quantidade de partículas presentes, essencial em condições de Classe 1–100. A ausência de partículas protege tanto a câmara quanto os wafer. A repetibilidade não é algo que seja considerado posteriormente – ela faz parte do design, garantindo que cada lote seja produzido dentro das especificações.

Fornalha on Cozy Infrared Home Heating

Lâmpada de forno de carboneto de silício (SiC)

Elemento de aquecimento do forno LPCVD