http://cozy-heat-ir.com/nl/tags/wafer/ Recent content in Wafer on Cozy Infrared Home Heating Hugo nl Thu, 02 Jul 2026 09:52:54 +0800 http://cozy-heat-ir.com/nl/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/ Thu, 02 Jul 2026 09:52:54 +0800 http://cozy-heat-ir.com/nl/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/ <p><img src="http://cozy-heat-ir.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Warmter voor meting van oppervlaktespanning van wafers"></p> <p>Op de lithografieafdeling kan een temperatuurverschil van 0,5°C over het oppervlak van de wafer gevolgen hebben voor de kwaliteit van het eindproduct. Zowel zachte als harde verhittingsmethoden kunnen geen oneffenheden in de temperatuur compenseren – nooit eerder, en nooit meer. We hebben een apparaat ontworpen om de temperatuur op het oppervlak van de wafer nauwkeurig te regelen, zodat de temperatuur over het hele oppervlak binnen ±0,1°C blijft.</p> <p><strong>Wat belangrijk is onder de motorkap</strong> Het gaat om een heater die geschikt is voor gebruik in een schone ruimte, met weinig deeltjes. De heater is thermisch goed verbonden met het oppervlak van de wafer. De temperatuur wordt in real time geregeld, zodat deze constant blijft gedurende het hele proces. De herhaalbaarheid van het proces wordt <a href="https://o-yate.net">gegarandeerd</a> door de constructie en de controlemechanismen. Hierdoor neemt de variatie tussen batches af. Er wordt zo een consistente afname van het solventenoppervlak bereikt, evenals een voorspelbaar effect van het fotoresistentmateriaal. Dit is precies wat nodig is voor een stabiel proces.</p> http://cozy-heat-ir.com/nl/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ Sun, 31 May 2026 05:15:36 +0800 http://cozy-heat-ir.com/nl/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/ <p><img src="http://cozy-heat-ir.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Wafer vochtverwijderingsverwarminglamp"></p> <p>Op de 300 mm-lijn komt de wafer op de bake track aan terwijl deze nog een dunne laag oppervlaktevocht bevat. Als de lamp dat water niet snel en gelijkmatig kan verwijderen, wordt dat zichtbaar bij de volgende lithografiestap: edge bead, resistdefecten en een CD-drift die zich vertaalt in opbrengstverlies op het reconciliatierapport. De heaterlamp is geen achtergrondonderdeel. Het is een proceslimiet.</p> <p>We <a href="https://henruite.com">hebben</a> onze wafer-vochtverwijderingsheaterlamp ontworpen om op dat limiet te functioneren, met een ontwerp dat leest als een processpecificatie, niet als een marketingblad. Het is gebouwd als een geverifieerd equivalent aan internationale normen voor halfgeleiderapparatuur, zodat het zonder herkwalificatie van de volledige thermische stack in bestaande bake/track- en coattools kan worden geplaatst.</p>