Oven on Cozy Infrared Home Heating

Oven met infraroodverwarmer voor schone ruimte

Mon, 27 Jul 2026 10:10:53 +0800

Waarom we overstappen op infrarood voor het drogen en harden van halfgeleiders

De oude manier van drogen en harden in halfgeleiderzuiverruimtes – waarbij gebruik wordt gemaakt van convectie en oplosmiddelen – werkt niet meer goed genoeg. Alles gaat richting ‘groene’ en loodvrije standaarden, en daar komt infrarood verwarming om de hoek kijken.
Stel je eens voor: traditionele ovens verbruiken veel energie om de lucht op te warmen, zodat die lucht vervolgens de component kan opwarmen. Dat is verspilling. Infraroodlampen vermijden dit volledig. Ze stralen energie rechtstreeks naar het substraat toe.
Het is direct. Het is snel. En het is logisch.

Koolstofsilicium (SiC) ovenlamp

Tue, 23 Jun 2026 01:23:00 +0800

Op de productielijn is het gebruik van een specifieke temperatuur voor het verhitten van de fotoresist geen aanbeveling – het is een vereiste. Een verschil van 2°C in de temperatuur kan leiden tot afwijkingen in de dimensionen van de wafer, waardoor er defecten ontstaan en de wafer naar de prullenbak gaat. De ovenlamp moet dus een constante en voorspelbare warmte leveren, shift na shift.

Wat belangrijk is onder de motorkap
We hebben de SiC-ovenlamp ontworpen met behulp van kortegolf-infrarood licht, zodat er snel en effectief warmte wordt gegenereerd op het oppervlak van de wafer. De thermische uniformiteit blijft binnen ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. De lamp is geschikt voor gebruik in een schone omgeving, met een classificatie van ISO Class 1–100. We gebruiken materialen die weinig gassen afgeven en een ontwerp dat helpt om de vorming van deeltjes te voorkomen. Het doel is om geen deeltjes te genereren – dit wordt gecontroleerd met behulp van in-situ-metingen tijdens de kalibratieprocedures. Hierdoor blijven de verhittingspatronen stabiel, zijn de procesparameters nauwkeuriger en blijft het gedrag van de fotoresist consistent van lot tot lot.

Verhittings element van LPCVD oven

Thu, 18 Jun 2026 04:58:11 +0800

Op de productielijn krijgt een LPCVD-oven geen tweede kans als er sprake is van thermische afwijkingen. Eén enkele afwijking kan leiden tot een film met ongelijke dikte, verbindingen die niet op de juiste plek zitten, en een hoop afgedankte wafers. We hebben de verwarmingscomponent zo ontworpen dat deze de thermische condities constant houdt, elke keer weer.

Wat technisch gezien belangrijk is: De component maakt gebruik van de stabiliteit van kwarts en de respons op kortegolf-infraroodlicht om de temperatuur snel en gelijkmatig te verhogen. Op het vlak van de wafels blijft de uniformiteit binnen ±0,1°C. De materialen zijn geschikt voor gebruik in een schone omgeving, zodat er minder deeltjes aanwezig zijn waar class 1–100 vereist is. Er wordt geen enkel deeltje gegenereerd, waardoor zowel de oven als de wafels beschermd blijven. Repeterbaarheid is geen bijzaak – het is integraal onderdeel van het ontwerp, zodat elke lading voldoet aan de specificaties.