<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Simpanan on Cozy Infrared Home Heating</title>
		<link>http://cozy-heat-ir.com/ms/tags/simpanan/</link>
		<description>Recent content in Simpanan on Cozy Infrared Home Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 13:43:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://cozy-heat-ir.com/ms/tags/simpanan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Alat ganti untuk lampu litografi ASML</title>
				<link>http://cozy-heat-ir.com/ms/posts/asml-lithography-lamp-spare/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 13:43:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://cozy-heat-ir.com/ms/posts/asml-lithography-lamp-spare/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://cozy-heat-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Alat ganti untuk lampu litografi ASML&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada garisan 300mm ini, kita sebenarnya sudah &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;menggunakan&lt;/a&gt; sepenuhnya kapasiti terma yang ada. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan pada profil lapisan fotoresist. Selain itu, ketidseragaman suhu semasa proses pembakaran akan menyebabkan adanya lapisan sisa di bahagian tepi wafer. Perubahan suhu seperti ini bukan sahaja memperlahankan proses pengeluaran, tetapi juga mengakibatkan pembaziran bahan. Kami menggunakan lampu-lampu ganti dari ASML untuk mengurangkan variasi tersebut dalam proses pengeluaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya:&lt;/strong&gt;&#xA;Kita perlu menyesuaikan tingkah laku termal platform ASML dengan output gelombang pendek dan sederhana yang sesuai untuk proses pembakaran fotoresist. Di seluruh permukaan wafer, tahap seragaman suhu kekal pada ±0.1°C, manakala kebolehulangan pula kekal dalam lingkungan ±0.2°C dari satu kitaran ke kitaran yang lain. Lampu-lampu ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100 tanpa menambahkan zarah-zarah tertentu, dan hal ini telah disahkan secara langsung. Lampu-lampu ini direka untuk beroperasi 24/7, selama lebih dari 5,000 jam, sambil memastikan outputnya tetap stabil dalam lingkungan 5%. Oleh kerana voltan dan sambungan lampu ini sesuai dengan antaramuka alat ASML, maka lampu ganti ini boleh digunakan tanpa perlu melakukan penyesuaian lagi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Alat ganti untuk pemprosesan wafer secara dalam talian</title>
				<link>http://cozy-heat-ir.com/ms/posts/wafer-processing-spare-parts-online/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:37:27 +0800</pubDate>
				<guid>http://cozy-heat-ir.com/ms/posts/wafer-processing-spare-parts-online/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://cozy-heat-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Alat ganti untuk pemprosesan wafer secara dalam talian&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada lini pengeluaran berukuran 300mm, kita tidak boleh membiarkan berlakunya sebarang penyimpangan semasa proses pemanasan bahan fotorezist, atau kehadiran zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer semasa proses pengeringan. Apabila kapasiti haba terhad, elemen pemanas bukan sekadar peralatan biasa, tetapi merupakan sebahagian daripada proses pengeluaran itu sendiri. Modul pemanasan inframerah yang digunakan oleh kami direka khusus untuk situasi seperti ini, sehingga memungkinkan kawalan suhu yang tepat tanpa perlu membuat anggaran semula.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan gelombang inframerah pendek untuk pemindahan tenaga yang cepat dan tepat, dengan masa tindak balas kurang dari satu saat. Ini memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan pemanasan – sesuatu yang sangat penting untuk proses pemanasan lembut dan keras. Emitter-nya juga bebas daripada zarah-zarah berbahaya, dan ia sesuai digunakan dalam persekitaran dari Kelas 1 hingga Kelas 100. Prestasi pengeluaran tetap stabil walaupun selepas 5,000 jam operasi, sehingga kualiti wafer tidak terjejas walaupun lama digunakan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
