<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengukuran on Cozy Infrared Home Heating</title>
		<link>http://cozy-heat-ir.com/ms/tags/pengukuran/</link>
		<description>Recent content in Pengukuran on Cozy Infrared Home Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:52:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://cozy-heat-ir.com/ms/tags/pengukuran/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk pengukuran tegangan permukaan wafer</title>
				<link>http://cozy-heat-ir.com/ms/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:52:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://cozy-heat-ir.com/ms/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://cozy-heat-ir.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk pengukuran tegangan permukaan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bahagian litografi, kawasan yang mempunyai suhu 0.5°C boleh merosakkan kualiti permukaan wafer tersebut. Kaedah pemanasan jenis “soft bake” dan “hard bake” tidak dapat mengatasi &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;masalah&lt;/a&gt; ketidakteraturan suhu ini—tidak pernah berjaya, dan tidak akan berjaya juga. Kami telah mencipta alat pengukur tegangan permukaan wafer untuk mengurangkan variasi suhu tersebut. Alat ini dapat memastikan suhu kekal stabil pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Alat pemanas ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih, dengan jumlah zarah yang sangat sedikit. Suhu dikawal secara masa nyata, jadi nilai suhu yang ditetapkan akan kekal sama sepanjang proses pemanasan. Repeatabiliti yang tinggi disebabkan oleh mekanisme kawalan yang canggih, sehingga variasi antara batch yang berbeza dapat dikurangkan. Ini memastikan proses pengeluaran menjadi lebih konsisten, dengan aliran bahan kimia yang dapat diramalkan, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;serta&lt;/a&gt; tenaga permukaan yang stabil—semua ini merupakan faktor penting dalam proses litografi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
