Lampu peleburan daripada karbida silikon (SiC)

Tue, 23 Jun 2026 01:23:00 +0800

Di kilang pembuatan, proses pemanggangan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan syarat penting yang perlu dipenuhi. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanggangan akan menyebabkan perubahan pada dimensi bahan tersebut, seterusnya menimbulkan kecacatan dan membuang wafer tersebut ke tong sampah. Lampu yang digunakan dalam proses ini perlu menghasilkan haba yang konsisten dan boleh diramalkan, dari waktu ke waktu.

Apa yang penting di sebaliknya… Kami telah mencipta lampu SiC yang menggunakan gelombang inframerah pendek, agar dapat memberikan pemanasan yang cepat pada permukaan wafer. Kestabilan suhu pula dikekalkan pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Badan lampu ini direka khas untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih, dengan standard ISO Class 1–100. Kami menggunakan bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta reka bentuk yang mampu mengelakkan kehadiran zarah-zarah berbahaya. Tidak ada zarah berbahaya yang dihasilkan – ini dibuktikan melalui ujian kualiti yang dilakukan secara berkala. Hasilnya, profil pemanggangan menjadi lebih stabil, prosesnya lebih tepat, dan prestasi bahan fotoresist tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.

Elemen pemanas untuk ketuhar LPCVD

Thu, 18 Jun 2026 04:58:11 +0800

Di ruang pengeluaran yang canggih ini, ketuhar LPCVD tidak mempunyai peluang kedua untuk mengatasi masalah berkaitan perubahan suhu. Sekiranya berlaku sebarang penyimpangan, hasilnya ialah lapisan filem yang tebalnya tidak konsisten, sambungan antara komponen yang tidak tepat pada tempatnya, serta timbunan wafer yang rosak. Kami telah merancang unsur pemanasan dengan teliti agar suhu dapat dikawal dengan baik dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain.

Apa yang penting dari segi teknikal: Unsur pemanasan ini bergantung pada kestabilan kuarsa dan respons gelombang inframerah pendek untuk menghasilkan haba dengan cepat dan secara seragam. Kestabilan suhu di peringkat wafer adalah sekitar ±0.1°C. Bahan-bahan yang digunakan sesuai untuk digunakan dalam suasana bilik bersih, sehingga jumlah zarah yang terkandung dalam udara dapat dikurangkan kepada tahap yang dibenarkan. Tiada penghasilan zarah sama sekali, yang seterusnya melindungi ketuhar dan wafer tersebut. Kepastian hasil pengeluaran juga merupakan aspek penting dalam reka bentuk ini, supaya setiap kumpulan wafer yang dihasilkan memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.

Ketuhar on Cozy Infrared Home Heating

Lampu peleburan daripada karbida silikon (SiC)

Elemen pemanas untuk ketuhar LPCVD