Di kilang pembuatan semikonduktor, perubahan suhu semasa proses pengeringan atau pembakaran bukan sahaja menyebabkan gangguan pada graf yang menunjukkan data suhu, tetapi juga mempengaruhi kualiti produk akhir. Perubahan suhu sebanyak 1°C boleh menyebabkan perubahan dimensi penting pada permukaan wafer sebanyak beberapa nanometer. Selain itu, pemanas yang kotor boleh menghasilkan zarah-zarah yang merosakkan struktur wafer. Kami telah mencipta pemanas semikonduktor yang dikawal oleh sistem PID untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.
Dari segi teknikalnya, apa yang penting ialah penggunaan pemanas inframerah gelombang pendek bersama-sama dengan sistem kawalan PID untuk memastikan suhu kekal dalam lingkungan ±0.1°C. Kestabilan suhu pada permukaan wafer pula harus melebihi ±0.5°C, agar lapisan fotoresist mendapat suhu yang sama rata. Masa tindak balas pemanas ialah kurang dari 300 ms, sehingga proses pengeringan dapat berjalan dengan lancar. Tingkap kuarsa dan kotak pelindung yang digunakan sesuai untuk kelas kebersihan 1–100. Pemanas ini tidak menghasilkan sebarang zarah semasa beroperasi. Dalam masa 24 jam, ketepatan suhu tetap berada dalam lingkungan ≤0.2°C, yang cukup untuk memastikan kualiti produk tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.
Dalam proses pengeringan wafer, sinar inframerah yang cepat dan seragam membantu menghilangkan kelembapan pada permukaan wafer tanpa merosakkan substratnya. Ini seterusnya mengurangkan masalah berkaitan tegangan permukaan dan garis-garis pada permukaan wafer. Dalam proses litografi pula, platform yang sama digunakan untuk proses pembakaran lembut dan keras, dengan pola yang boleh diulang-ulang. Ini sangat penting untuk memastikan ketebalan lapisan fotoresist, daya lekatnya, serta kemampuan etching yang konsisten.
Sistem PID membantu mengimbangi perubahan suhu akibat faktor-faktor seperti perubahan suhu persekitaran atau perubahan batch. Dengan cara ini, waktu operasi pada pukul 3 pagi akan sama seperti waktu operasi pada pukul 3 petang. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana inframerah hanya memanaskan objek yang disasarkan, bukan keseluruhan struktur wafer.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan: Proses pemasangan pemanas bergantung pada nilai emisiviti dan faktor pandangan. Lapisan pelindung atau penutup yang gelap boleh menyebabkan titik panas di beberapa tempat, jadi kami menyediakan peta kalibrasi dan mengesyorkan agar anda menggunakan alat pengukur suhu untuk memastikan ketepatan suhu. Pemanas ini menggunakan voltan 24 V sebagai standard, manakala voltan inputnya ialah 110–240 V. Namun, tetapan PID perlu disesuaikan mengikut keperluan aplikasi tertentu. Adalah disyorkan untuk melakukan ujian awal untuk menentukan masa tindak balas pemanas dan masa untuk mencapai suhu yang diinginkan.