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Parti di ricambio per lampade di litografia ASML

Wed, 01 Jul 2026 13:43:42 +0800

Nella linea da 300 mm, già我们现在 stiamo sfruttando al massimo il budget termico disponibile. Una variazione di mezzo grado durante la fase di essiccazione del fotorestista è sufficiente per alterare il profilo del fotorestista stesso; inoltre, le irregolarità nell’essiccazione causano problemi proprio dove non vogliamo che accadano: residui di vernice ai bordi dei wafer. Queste variazioni non solo rallentano il processo, ma possono anche portare alla produzione di prodotti difettosi. Abbiamo quindi messo insieme questi componenti di ricambio per le lampade di litografia ASML, al fine di ridurre tali variazioni nel processo di produzione.

Pezzi di ricambio per la lavorazione dei wafer online

Wed, 17 Jun 2026 16:37:27 +0800

In una linea di produzione da 300 mm, non si può tollerare alcuna variazione nella temperatura durante il processo di “soft bake” del fotorestist, né la presenza di particelle durante l’essiccazione dei wafer. Quando il budget termico è limitato, l’elemento di riscaldamento non è semplicemente un componente hardware: rappresenta invece un elemento fondamentale per il corretto svolgimento del processo. I nostri moduli di riscaldamento a infrarossi in tempo reale sono progettati apposta per questi casi, permettendo un controllo preciso della temperatura senza dover fare affidamento su stimazioni approssimative.