Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dal wafer

Sun, 31 May 2026 05:15:36 +0800

Sulla linea da 300 mm, il wafer arriva al bake track portando ancora uno strato sottile di umidità superficiale. Se la lampada non riesce a rimuovere rapidamente e uniformemente quell’acqua, la successiva passata di litografia ne risentirà: edge bead, difetti nel resist e una deriva del CD che si traduce in perdita di resa nel report di riconciliazione. La lampada riscaldante non è un componente secondario. È un limite di processo.
Abbiamo progettato la nostra lampada riscaldante per la rimozione dell’umidità dal wafer per operare esattamente a quel limite, con un design che segue le specifiche di processo, non una scheda marketing. È ingegnerizzata come equivalente verificato agli standard internazionali per apparecchiature semiconduttori, così da poterla inserire in bake/track e strumenti di coating esistenti senza dover riqualificare l’intero stack termico.

Rimozione on Cozy Infrared Home Heating

Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dal wafer