Elemento di riscaldamento del forno LPCVD

Thu, 18 Jun 2026 04:58:11 +0800

Nelle linee di produzione LPCVD, il forno non ha alcuna possibilità di correggere gli errori legati alle fluttuazioni termiche. Un solo errore può portare a uno strato di materiale troppo sottile, a giunzioni non correttamente posizionate e, infine, a un mucchio di wafer non utilizzabili. Abbiamo progettato l’elemento riscaldante in modo che mantenga stabili le condizioni termiche, run dopo run.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
L’elemento riscaldante si basa sulla stabilità del quarzo e sulla capacità di rispondere alle onde infrarosse a breve lunghezza d’onda, per poter aumentare rapidamente la temperatura in modo uniforme. La uniformità alla superficie dei wafer rimane entro ±0,1°C. I materiali utilizzati sono compatibili con gli ambienti a controllo ambientale, permettendo così di mantenere un basso numero di particelle presenti nell’ambiente, come richiesto nelle condizioni di classe 1–100. L’assenza di particelle protège sia la camera di produzione che i wafer stessi. La ripetibilità dei risultati non è qualcosa che viene preso in considerazione in seguito: è parte integrante della progettazione, in modo che ogni lotto venga prodotto secondo le specifiche richieste.

LPCVD on Cozy Infrared Home Heating

Elemento di riscaldamento del forno LPCVD