Lampu tungku karbida silikon (SiC)

Tue, 23 Jun 2026 01:23:00 +0800

Di lantai produksi, proses pemanasan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan—ini merupakan syarat mutlak yang harus dipenuhi. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan akan mengakibatkan perubahan pada dimensi-dimensi penting dari wafer, menimbulkan cacat, dan membuat wafer tersebut menjadi limbah. Lampu pemanas tersebut harus mampu menghasilkan panas yang konsisten dan dapat diulang-ulang setiap kali digunakan.

Apa yang penting dalam proses ini? Kami merancang lampu pemanas SiC berbasis cahaya inframerah berpanjang gelombang pendek, sehingga panas yang dihasilkan dapat langsung mencapai permukaan wafer. Keteraturan suhu di seluruh permukaan wafer dikontrol hingga ±0,1°C. Badan lampu dirancang agar cocok untuk digunakan di ruang bersih dengan standar ISO Class 1–100. Kami menggunakan bahan-bahan yang tidak mengeluarkan gas berbahaya, serta desain yang mampu mengurangi penumpukan partikel. Tidak adanya partikel sama sekali bukanlah sekadar slogan saja; hal ini dibuktikan melalui pengukuran yang dilakukan selama proses uji coba. Hasilnya adalah profil pemanasan yang stabil, rentang proses yang lebih ketat, serta perilaku fotoresist yang konsisten dari satu batch ke batch lainnya.

Elemen pemanas tungku LPCVD

Thu, 18 Jun 2026 04:58:11 +0800

Di fasilitas produksi, furnace jenis LPCVD tidak memiliki kesempatan kedua untuk mengatasi masalah akibat perubahan suhu yang tidak terkendali. Sekali saja terjadi penyimpangan suhu, maka hasilnya akan berupa lapisan film yang tebalnya tidak sesuai standar, sambungan antar komponen yang tidak tepat posisinya, serta tumpukan wafer yang tidak bisa digunakan lagi. Kami merancang elemen pemanas sedemikian rupa agar suhu tetap stabil dari satu siklus produksi ke siklus produksi berikutnya.

Yang penting secara teknis: Elemen pemanas ini memanfaatkan stabilitas kuarsa dan respons inframerah pendek untuk memanaskan permukaan wafer secara cepat dan merata. Tingkat keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap dalam kisaran ±0,1°C. Bahan-bahan yang digunakan cocok digunakan di lingkungan cleanroom, sehingga jumlah partikel debu tetap rendah, sesuai dengan standar kelas 1–100. Tidak adanya partikel debu akan melindungi baik chamber maupun wafernya. Reproduktibilitas hasil produksi juga sangat penting; hal ini sudah ditetapkan sejak awal desainnya, sehingga setiap batch produk akan memenuhi standar yang ditentukan.

Tanur on Cozy Infrared Home Heating

Lampu tungku karbida silikon (SiC)

Elemen pemanas tungku LPCVD