Suku cadang lampu litografi ASML

Wed, 01 Jul 2026 13:43:42 +0800

Pada garis produksi berukuran 300 mm ini, kita sudah menggunakan batas kemampuan termal yang ada. Perubahan suhu sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk mengganggu profil lapisan fotoresist. Ketidakseragaman suhu saat proses pembakaran juga akan menyebabkan munculnya lapisan residu di bagian tepi wafer. Hal seperti ini tidak hanya memperlambat proses produksi, tetapi juga menyebabkan limbah yang tidak diinginkan. Kami menggunakan lampu-lampu pengganti dari ASML untuk mengurangi variabilitas tersebut dalam proses produksi.

Yang penting secara teknis: Kami menyesuaikan perilaku termal dari platform ASML dengan output gelombang pendek dan menengah yang cocok untuk proses pembakaran fotoresist. Di seluruh permukaan wafer, tingkat keseragaman suhu tetap pada kisaran ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya tetap dalam kisaran ±0,2°C dari siklus ke siklus. Lampu-lampu ini dapat beroperasi di ruang bersih kelas 1–100 tanpa menambah partikel-partikel pengganggu, dan hal ini telah diverifikasi secara langsung. Lampu-lampu ini dirancang untuk beroperasi 24/7, selama lebih dari 5.000 jam, dengan tingkat ketidakkonsistenan output kurang dari 5%. Karena tegangan dan konektor lampu ini sesuai dengan antarmuka peralatan ASML, maka penggantian lampu dapat dilakukan tanpa perlu proses kalibrasi ulang.

Suku cadang untuk proses pengolahan wafer secara online

Wed, 17 Jun 2026 16:37:27 +0800

Pada lini produksi berukuran 300 mm, kita tidak boleh membiarkan adanya penyimpangan suhu selama proses pemanasan fotoresist atau adanya partikel berbahaya saat proses pengeringan wafer. Ketika batasan suhu yang tersedia sangat ketat, elemen pemanas bukan sekadar perangkat keras biasa; ia merupakan bagian penting dari proses produksi itu sendiri. Module pemanas inframerah kami dirancang khusus untuk situasi seperti ini, sehingga memungkinkan kontrol suhu yang akurat tanpa harus bergantung pada perkiraan semata.

Yang penting secara teknis Kami menggunakan radiasi inframerah berpanjang gelombang pendek agar energi dapat ditransfer dengan cepat dan tepat, dalam waktu kurang dari satu detik. Hal ini memungkinkan terciptanya keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, yaitu dalam rentang ±0,1°C. Itulah yang dibutuhkan untuk proses pemanasan fotoresist. Emitter-nya bekerja dengan sempurna: tidak menghasilkan partikel apa pun, dan cocok digunakan di lingkungan kelas 1 hingga kelas 100. Daya keluarannya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, sehingga kualitas produk tetap terjaga meski lampu tersebut sudah tua.

Cadangan on Cozy Infrared Home Heating

Suku cadang lampu litografi ASML

Suku cadang untuk proses pengolahan wafer secara online