Sèche linge infrarouge compact pour CI

Mon, 08 Jun 2026 05:36:20 +0800

Sur le plancher de fabrication, vous connaissez la procédure : une cuisson de photo-résist qui dérive de seulement 0,2°C peut entraîner un contrôle hors spécification des dimensions critiques et réduire le rendement. Il faut une étape thermique répétable, heure après heure, sans générer de particules ni de temps d’arrêt imprévus.
Ce qui importe techniquement
Nous avons conçu ce four compact infrarouge pour CI autour d’émetteurs à ondes courtes et d’optiques en quartz. Le résultat est un chauffage rapide et couplé directement avec une uniformité thermique serrée. Sur l’ensemble de la pastille, le contrôle de la température maintient ±0,1°C, et les profils de cuisson douce et cuisson dure du photo-résist restent stables d’un cycle à l’autre.
L’encombrement est adapté aux baies étroites, tandis que la puissance thermique suit le budget thermique des fours plus grands. Il fonctionne sous tension standard, s’intègre aux manipulateurs existants et répond aux contraintes de salle blanche de classe 1–100 sans générer de particules. La répétabilité n’est pas commerciale — elle est spécifiée : plus de 5 000 heures avec une dérive de puissance inférieure à 5 %.
Pourquoi cela fonctionne là où c’est important
En lithographie et séchage post-process, temps et température sont indissociables — on ne peut pas modifier l’un sans affecter l’autre. Ce module réduit le temps de cycle en chauffant à la demande, tout en préservant la fenêtre de process pour maintenir les CD et overlay protégés. La consommation énergétique diminue car l’énergie est dirigée vers la couche film, non vers la chambre.
Cela se traduit par un rendement stable des lignes, moins de lots rebutés, et des intervalles de maintenance planifiables. La conception constitue une alternative compatible aux modules thermiques standards et s’aligne sur les pratiques internationales des équipements semi-conducteurs.
Points à considérer
L’installation est simple, mais il convient de vérifier la tension de ligne et la compatibilité des connecteurs avant intégration. La température de surface de la fenêtre des émetteurs requiert un dégagement sécuritaire et une protection adaptée, notamment sur les postes manuels.
Prévoyez un court cycle de qualification pour cartographier précisément votre empilement de films et définir la courbe de cuisson. Verrouillez ensuite ce paramètre dans la recette afin de garantir une exécution constante, poste après poste.

Lampe infrarouge à ondes courtes pour CI

Thu, 04 Jun 2026 04:03:44 +0800

Sur le plancher de fabrication, on apprend vite : une dérive de 0,1°C dans la température de cuisson peut déplacer une dimension critique de quelques nanomètres et annuler des heures de travail en lithographie. Lorsqu’on réalise un traitement de photoresist—pré-cuisson douce, cuisson dure, post-cuisson après exposition—l’uniformité thermique au niveau de la plaquette n’est pas un « plus agréable à avoir ». C’est la condition essentielle au rendement.

Voici ce sur quoi nous nous appuyons. Nos lampes infrarouges à ondes courtes (SWIR) transfèrent rapidement la chaleur directement dans la pile, tout en maintenant une uniformité à ±0,1°C sur la plaquette. L’enveloppe en quartz et la géométrie du réflecteur stabilisent le profil thermique, et la puissance de la lampe reste constante cycle après cycle.

CI on Cozy Infrared Home Heating

Sèche linge infrarouge compact pour CI

Lampe infrarouge à ondes courtes pour CI