Heizelement der LPCVD Öfen

Thu, 18 Jun 2026 04:58:11 +0800

In der Fabrikhalle erhält ein LPCVD-Ofen keine zweite Chance aufgrund von thermischen Abweichungen. Schon eine kleine Abweichung führt dazu, dass die Schichtdicke nicht korrekt ist, die Dotierungspunkte nicht an der richtigen Stelle liegen – und am Ende hat man nur noch Haufen von beschädigten Wafern. Wir haben das Heizelement so konstruiert, dass die Temperatur im Laufe mehrerer Betriebszyklen konstant bleibt.

Was technisch wichtig ist:
Das Heizelement nutzt die Stabilität des Quarzes sowie die Reaktion auf kurzwelliges Infrarotlicht, um die Temperatur schnell und gleichmäßig zu erhöhen. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur auf den Wafern liegt dabei bei ±0,1°C. Die verwendeten Materialien sind förderbedingt geeignet, sodass die Anzahl der Partikel unterhalb der geforderten Werte bleibt. Dadurch wird sowohl die Kammer als auch die Wafern vor Schäden geschützt. Die Wiederholgenauigkeit ist bereits in der Konstruktion berücksichtigt – dadurch liegen alle Chargen innerhalb der Spezifikationen.

LPCVD on Cozy Infrared Home Heating

Heizelement der LPCVD Öfen