<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Plátek on Cozy Infrared Home Heating</title>
		<link>http://cozy-heat-ir.com/cs/tags/pl%C3%A1tek/</link>
		<description>Recent content in Plátek on Cozy Infrared Home Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 05:15:36 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://cozy-heat-ir.com/cs/tags/pl%C3%A1tek/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Topné těleso pro odstraňování vlhkosti z waferu</title>
				<link>http://cozy-heat-ir.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 05:15:36 +0800</pubDate>
				<guid>http://cozy-heat-ir.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://cozy-heat-ir.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Topné těleso pro odstraňování vlhkosti z waferu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na lince pro 300 mm se wafer dostává na bake track stále s tenkou vrstvou povrchové vlhkosti. Pokud lampa tuto vodu nedokáže rychle a rovnoměrně odstranit, projeví se to při další lithografické pasáži – okrajovým náběhem, defekty rezistu a posunem CD, což se následně projeví ztrátou výtěžnosti v reportu vyrovnání. Topná lampa není pouhým doplňkem. Je to hranice procesu.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Naši topnou lampu pro odstranění vlhkosti z waferu jsme navrhli tak, aby pracovala právě na této hranici, s konstrukcí odpovídající procesní specifikaci, nikoli marketingovému listu. Je konstruována jako ověřená ekvivalence mezinárodních standardů pro polovodičové zařízení, takže ji lze bez nutnosti znovu kvalifikovat celé tepelné řešení jednoduše vložit do stávajících bake/track a coating zařízení.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
