在光刻过程中，如果晶圆上出现0.5°C的温差，就足以破坏光刻质量的稳定性。无论是软烘烤还是硬烘烤，都无法消除这种不均匀的热分布——过去如此，将来也依然如此。我们设计了专门的晶圆表面温度测量装置，以此来消除这种温度波动，从而确保整个晶圆表面的温度保持在±0.1°C的范围内。
关键在于： 这种加热器专为洁净室环境设计，具有低颗粒生成特性，且能与晶圆台紧密热耦合。温度可实时控制，因此在整个烘烤过程中，设定温度都能保持稳定。其重复性极高，因此不同批次之间的产品质量差异也会大大降低。这样一来，溶剂去除效果更稳定，光刻胶的流动性能也有保障，同时晶圆表面的能量也更加稳定——这正是工艺流程所要求的。
为何适合用于生产： 在1-100级洁净室环境中，这种加热器不会产生任何颗粒物，从而避免影响产品质量并减少废品率。均匀的热场使得烘烤时间可以缩短，而不会影响光刻胶的性能，进而提高生产效率，同时降低每块晶圆的能耗。该加热器可24/7持续运行，因此不会因温度变化而导致非计划性的停机情况，从而提升整体运营效率。
需要注意的事项： 安装时必须确保加热器与晶圆台精确对齐，同时还需要为加热器提供清洁、干燥的气体供应，以保护其表面。该设备可使用标准接口，但如果需要改造现有设备，则可能需要做一些机械上的调整。只要烘烤室的排气和冷却系统能够满足热负荷需求，该设备的使用寿命就会很长；否则，其控制精度可能会受到影响。只要正确配置，该设备就能持续稳定地工作。