Pada lini pengeluaran berukuran 300mm, kita tidak boleh membiarkan berlakunya sebarang penyimpangan semasa proses pemanasan bahan fotorezist, atau kehadiran zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer semasa proses pengeringan. Apabila kapasiti haba terhad, elemen pemanas bukan sekadar peralatan biasa, tetapi merupakan sebahagian daripada proses pengeluaran itu sendiri. Modul pemanasan inframerah yang digunakan oleh kami direka khusus untuk situasi seperti ini, sehingga memungkinkan kawalan suhu yang tepat tanpa perlu membuat anggaran semula.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan gelombang inframerah pendek untuk pemindahan tenaga yang cepat dan tepat, dengan masa tindak balas kurang dari satu saat. Ini memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan pemanasan – sesuatu yang sangat penting untuk proses pemanasan lembut dan keras. Emitter-nya juga bebas daripada zarah-zarah berbahaya, dan ia sesuai digunakan dalam persekitaran dari Kelas 1 hingga Kelas 100. Prestasi pengeluaran tetap stabil walaupun selepas 5,000 jam operasi, sehingga kualiti wafer tidak terjejas walaupun lama digunakan.
Mengapa ia berkesan di tempat yang penting
Dalam mesin litografi, modul ini memastikan suhu pemanasan tetap stabil, supaya proses penyejatan pelarut berlaku mengikut spesifikasi pengilang bahan fotorezist, bukan disebabkan oleh perubahan suhu sekeliling. Dalam proses pengeringan pula, modul ini memastikan proses pemanasan berjalan lancar tanpa adanya “watermark” pada permukaan wafer, sehingga mengurangkan keperluan untuk melakukan kerja-kerja pembaikan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana emitter hanya memanaskan objek yang ditetapkan, bukan seluruh bilik pemanasan.
Bagaimana untuk memastikan kelancaran proses pengeluaran
Pemanasan inframerah memerlukan orientasi yang tepat antara emitter dan wafer. Letakkan emitter dengan cara yang betul agar pandangan ke arah wafer adalah optimum. Lakukan ujian penerimaan di tapak untuk memastikan suhu yang dihasilkan sesuai dengan suhu sebenar wafer. Proses pemanasan akan mengambil sedikit masa untuk mencapai keadaan stabil, kemudian suhu dapat dikawal dengan baik. Kawalan suhu yang baik merupakan faktor penting untuk memastikan proses pengeluaran berjalan lancar.