Di ruang pengeluaran yang canggih ini, ketuhar LPCVD tidak mempunyai peluang kedua untuk mengatasi masalah berkaitan perubahan suhu. Sekiranya berlaku sebarang penyimpangan, hasilnya ialah lapisan filem yang tebalnya tidak konsisten, sambungan antara komponen yang tidak tepat pada tempatnya, serta timbunan wafer yang rosak. Kami telah merancang unsur pemanasan dengan teliti agar suhu dapat dikawal dengan baik dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain.
Apa yang penting dari segi teknikal: Unsur pemanasan ini bergantung pada kestabilan kuarsa dan respons gelombang inframerah pendek untuk menghasilkan haba dengan cepat dan secara seragam. Kestabilan suhu di peringkat wafer adalah sekitar ±0.1°C. Bahan-bahan yang digunakan sesuai untuk digunakan dalam suasana bilik bersih, sehingga jumlah zarah yang terkandung dalam udara dapat dikurangkan kepada tahap yang dibenarkan. Tiada penghasilan zarah sama sekali, yang seterusnya melindungi ketuhar dan wafer tersebut. Kepastian hasil pengeluaran juga merupakan aspek penting dalam reka bentuk ini, supaya setiap kumpulan wafer yang dihasilkan memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.
Mengapa ia berkesan dalam proses LPCVD sebenar: Kestabilan suhu merupakan faktor utama yang menentukan kualiti produk yang dihasilkan. Unsur pemanasan ini mampu mengekalkan suhu yang tetap walaupun ketuhar beroperasi 24/7. Kami juga tidak pernah menghadapi masalah henti operasi yang tidak dirancang. Proses pemanggangan bahan fotorezist juga berjalan dengan lebih efisien, sekali gus mengurangkan ralat pada permukaan wafer. Kelajuan pemanasan yang tinggi dan penggunaan tenaga yang rendah juga membantu mengurangkan kos pengeluaran.
Apa yang perlu diperhatikan semasa pemasangan: Pemasangan unsur pemanasan ini memerlukan perhatian khusus terhadap jarak antara komponen dan tork yang digunakan untuk memasangnya. Jika komponen yang digunakan tidak sesuai, ia boleh menyebabkan masalah suhu yang tidak stabil. Unsur pemanasan ini sesuai untuk digunakan pada platform LPCVD biasa, tetapi pastikan geometri ketuhar dan beban haba sesuai sebelum menggantikannya. Selepas penggantian, lakukan proses pemanasan semula untuk memastikan suhu kembali stabil. Lakukan proses ini semasa masa penyelenggaraan, agar tidak menyusahkan proses pengeluaran.