300mmファブラインでは、フォトレジストのソフトベイク時の温度変動やウェーハ乾燥時の粒子の発生を許容することはできません。熱制御が厳しい状況下では、加熱要素は単なるハードウェアではなく、プロセスそのものです。当社のオンライン赤外線加熱モジュールは、まさにそうした状況に対応するために設計されており、推測に頼ることなく、正確な温度制御が可能です。
技術的に重要な点 私たちは、迅速かつ直接的なエネルギー伝達のために短波長の赤外線を利用しています。これにより、ベイクゾーン全体で±0.1℃以内の均一性が実現され、ソフトベイクやハードベイクに必要な条件が満たされます。また、この加熱装置は汚染物質を発生させず、クラス1からクラス100の環境でも使用可能です。5,000時間以上にわたって出力が安定しているため、ランプが劣化しても再現性が保たれ、CDや欠陥の品質が低下することはありません。
なぜ有効なのか リソグラフィーシステムにおいて、このモジュールはソフトベイクの温度を一定に保ち、溶剤の蒸発がレジストメーカーの仕様通りに行われるようにします。乾燥工程では、水痕が残らずに熱処理が完了し、再作業や廃棄物の削減につながります。また、加熱装置が対象物だけを加熱するため、エネルギー消費も削減されます。
そして、生産を継続するためには、オンラインスペア部品が用意されています。交換用モジュールは、既存の装置に簡単に取り付けられ、指定されたコネクタやキャリブレーションファイルを使えば、プロセス全体を再調整することなく、熱性能を回復させることができます。
計画すべき点 赤外線加熱は直線的な伝播方式なので、形状や放射率が重要です。ウェーハの配置に合わせて加熱装置を適切に配置し、サイト受入試験を行って設定値と実際のウェーハ温度を確認します。安定してからは、温度を維持することが大切です。温度制御は、安定したプロセスと費用のかかる問題解決との違いを生み出します。