Di area pabrik, fluktuasi suhu selama proses pengeringan atau pemanasan tidak hanya terlihat sebagai perubahan kecil pada grafik suhu—fluktuasi tersebut juga berdampak langsung pada kualitas produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebesar 1°C saja sudah cukup untuk mengubah dimensi-k dimensi penting dari bahan semikonduktor menjadi beberapa nanometer. Selain itu, pemanas yang kotor dapat menghasilkan partikel-partikel yang merusak permukaan bahan semikonduktor. Kami membuat pemanas semikonduktor yang dikendalikan oleh sistem PID, sehingga fluktuasi suhu dapat diminimalkan sejak awal.
Yang penting secara teknis adalah penggunaan emiter inframerah berfrekuensi tinggi bersama dengan kontroler PID berbentuk lingkaran tertutup, agar suhu tetap stabil dalam rentang ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Konsistensi suhu pada permukaan wafer mencapai lebih dari ±0,5°C, sehingga lapisan fotoresist akan mendapatkan perlakuan termal yang seragam. Waktu responsnya kurang dari 300 ms, sehingga proses pemanasan berjalan dengan lancar. Jendela kaca kuarsa dan casing yang digunakan memenuhi standar kelas 1–100; selain itu, pemanas ini tidak menghasilkan partikel apa pun saat beroperasi. Dalam jangka waktu 24 jam, fluktuasi suhu tetap berada di kisaran ≤0,2°C—angka yang cukup untuk menjaga kualitas lapisan fotoresist dan konsistensi ukuran bahan semikonduktor.
Berikut cara kerjanya dalam proses produksi: Untuk proses pengeringan wafer, sinar inframerah yang cepat dan seragam digunakan untuk menghilangkan kelembapan di permukaan wafer, tanpa merusak substratnya. Hal ini mengurangi cacat akibat tegangan permukaan dan mencegah munculnya garis-garis pada permukaan wafer. Dalam proses litografi, platform yang sama digunakan untuk proses pemanasan ringan maupun intensif, dengan profil pemanasan yang konsisten—hal ini sangat penting untuk mencapai ketebalan lapisan fotoresist yang seragam, serta kemampuan pengikatan yang baik antara lapisan fotoresist dan substrat.
Sistem PID berfungsi untuk mengompensasi perubahan suhu akibat faktor-faktor seperti perubahan batch atau kondisi lingkungan sekitar. Dengan demikian, kondisi suhu pada pukul 3 pagi akan sama dengan kondisi suhu pada pukul 3 sore. Selain itu, penggunaan energi juga berkurang, karena inframerah hanya memanaskan objek yang dituju, bukan seluruh bagian frame.
Beberapa hal praktis yang perlu diperhatikan: Proses pemasangan pemanas bergantung pada nilai emisivitas dan faktor pandangan. Lapisan pelindung yang gelap dapat menyebabkan munculnya titik panas lokal, sehingga kami menyediakan peta kalibrasi dan merekomendasikan agar Anda memverifikasinya menggunakan alat penilai suhu yang sesuai dengan jenis chuck yang digunakan. Pemanas ini menggunakan tegangan kontrol 24 V, sedangkan tegangan masukannya berkisar antara 110–240 V. Namun, penyetelan PID membutuhkan penyesuaian sesuai dengan aplikasi tertentu. Lakukan uji coba singkat untuk menentukan waktu respons dan waktu penyesuaian suhu yang tepat untuk proses produksi Anda.