Mempertahankan Kebersihan Wafer Saat Proses Pengeringan
Saat mengeringkan wafer sensor MEMS, panas hanyalah salah satu faktor penting saja. Masalah sebenarnya adalah adanya partikel-partikel kecil yang terlepas dari bahan pengisolasi atau oksida logam. Di ruang bersih kelas 100, satu serpihan kecil saja sudah cukup untuk merusak seluruh wafer yang ada. Hal ini sangat menyebalkan, dan biayanya pun mahal.
Itulah sebabnya kami menggunakan lampu inframerah berbahan kuarsa murni.
Masalah dengan metode pemanasan “standar”
Sebagian besar elemen pemanas memiliki kebiasaan melepaskan gas atau partikel kecil saat panas maupun dingin. Kami tidak menggunakan metode seperti itu. Dengan menggunakan kuarsa murni, kita mendapatkan bahan yang tahan terhadap perubahan suhu ekstrem tanpa mengalami retakan atau kerusakan.
Kami juga menghilangkan bahan pengikat organik dan lapisan pelindung murahan. Mengapa? Karena bahan-bahan tersebut dapat mudah menguap dan menumpuk di permukaan wafer. Sebaliknya, kita mendapatkan sumber panas yang efektif tanpa meninggalkan kotoran.
Hentikan perpindahan debu
Metode pemanasan konveksi membutuhkan aliran udara. Namun, aliran udara berarti adanya perpindahan debu. Kami menggunakan metode inframerah gelombang pendek (SWIR). SWIR mengirim energi langsung ke tetesan air di permukaan wafer. Prosesnya sangat cepat. Karena tidak digunakan udara berkecepatan tinggi, maka tidak akan ada partikel yang terbang di dalam ruang bersih.
Detil pengaturan yang perlu diperhatikan
Memasang lampu-lampu ini ke dalam stasiun pengeringan bukanlah hal yang sederhana. Anda perlu memastikan daya listrik yang digunakan cukup. Lampu kuarsa berdaya tinggi ini membutuhkan daya yang besar, sehingga sumber listrik perlu dipilih dengan hati-hati.
Anda juga perlu memastikan sistem pendinginan berfungsi dengan baik. Jika ventilasi tidak tepat, panas akan merusak bracket penyangga wafer. Memperbaikinya setelahnya akan merepotkan, jadi pastikan aliran udara berjalan dengan baik sejak awal.
Kami memastikan ukuran lampu ini sesuai agar bisa dimasukkan ke dalam chamber vakum atau saluran pengeringan. Dengan demikian, panas akan langsung sampai ke wafer, sehingga proses pengeringan berlangsung lebih cepat dan hasilnya lebih baik. Perlu diingat: pastikan kabel-kabelnya mampu menahan beban termal yang tinggi. Tidak ada yang mau kabelnya rusak akibat panas yang berlebihan.