על גבי שטח הליתוגרפיה, נקודת חום בטמפרטורה של 0.5°C על פני הוואפר יכולה לפגוע באיכות השכבה העליונה שנמצאת על הוואפר, וכן בשליטה ברמת ה-CD. שימוש בחימום רך או חזק אינו מסייע בפתרון בעיות של חום לא אחיד – זה לא קרה מעולם, וזה לא יקרה אף פעם. פיתחנו מערכת למדידת מתח הפני השטח של הוואפר, כדי להפחית את השונויות בטמפרטורה; המערכת מאפשרת שמירה על טמפרטורה אחידה של ±0.1°C על פני כל שטח הוואפר.
מה חשוב באמת? מדובר במערכת חימום שמתאימה לחדרים נקיים, עם רמת חלקיקים נמוכה. החימום מחובר ישירות לוואפר. הטמפרטורה נשלטת בזמן אמת, כך שהערך המבוקש נשמר לאורך כל תהליך החימום. החזרתיות של התהליך נשמרת בזכות המנגנון המכני ומעגל הבקרה; לכן, השונויות בין סדרות הייצור פוחתות. כך ניתן להשיג הסרה אחידה של החומרים המפריעים, זרימה צפויה של החומרים המשמשים לליתוגרפיה, ואנרגיה פני שטח יציבה – בדיוק מה שנדרש לתהליך.
למה זה טוב לייצור? בסביבות מסוג Class 1–100, המערכת מתאימה לשימוש ללא עלייה ברמת החלקיקים. אין ייצור של חלקיקים, מה שמגן על איכות המוצרים ומונע פגמים במוצרים. שדה החום האחיד מאפשר לקצר את זמן החימום מבלי לפגוע בביצועי החומרים המשמשים לליתוגרפיה; כך עולה היעילות ויורדת האנרגיה הנדרשת לעיבוד כל וואפר. המערכת מיועדת לפעול 24/7, כך שאין עוד עיכובים לא צפויים בתהליך הייצור.
מה צריך לעשות כדי שהמערכת תפעל כראוי? ההתקנה דורשת התאמה מדויקת של המערכת לוואפר, וכן אספקה של גז נקי ויבש כדי להגן על משטח החימום. המערכת פועלת עם אינטרפייסים סטנדרטיים, אך במקרה של שדרוג, ייתכנו שינויים מכניים קלים. חיי השירות של המערכת יהיו טובים אם אוויר הפליטה והקירור של חדר החימום יתאימו לעומס התרמי; במקרה אחר, עלולה להיות בעיה בשליטה בטמפרטורה. אם תבחרו את המערכת כראוי, היא תפעל כראוי, יום אחר יום.